作为电子工业用气体之一，甲硅烷SiH4不仅在液晶TFT、太阳能电池、半导体、感光体材料等工况具有重要的应用，而且还用于能源工业、玻璃工业、化学工业及高科技领域等。这主要是由于高纯四氢化硅SiH4的理化特性，为确保其性能需要对硅烷纯度以及氧含量进行检测，那么
硅烷中的微量氧含量怎么测呢？一般而言，可以直接使用基于ECD电化学法原理的
高纯SiH4气体中O2浓度分析仪来检测硅烷中氧气的浓度值是否符合国家标准GB/T15909中硅烷中氧O2含量体积分数的要求。
硅烷，一般指甲硅烷，又称作四氢化硅，化学式为SiH4，是重要的电子工业用气体。主要用于制作高纯多晶硅、二氧化硅的低温化学气相淀积、氮化硅化学气相淀积、多晶硅隔离层、多晶硅欧姆接触层和异质或同质硅外延生长原料以及离子注入源和激光介质等，还可用于制作太阳能电池、光导纤维和光电传感器等。
工业上制备硅烷的方法主要包括硅化镁法、氢化铝钠还原四氟化硅法、氯硅烷歧化工艺法等。在这些工艺过程中，原料中的氧气可能会被引入到产品中。例如，硅化镁法中，原料四氯化硅和硅化镁在反应过程中可能会与氧气发生反应，产生氧气；氢化铝钠还原四氟化硅法中，原料四氟化硅和氢化铝钠在反应过程中可能会与氧气发生反应，产生氧气；氯硅烷歧化工艺法中，原料四氯化硅在歧化反应过程中可能会与氧气发生反应，产生氧气。因此，为了得到高纯度的硅烷，需要采取有效的控制氧气含量的措施，以避免氧气对产品质量的影响。
国家标准《GB/T 15909-2017 电子工业用气体 硅烷》中对于工业硅烷气体中氧含量要求如下：
硅烷（SiH4）纯度≥99.9999%VOL，氧+氩（O2+Ar）含量≤0.05ppm
以赢润集团研发生产的ERUN-QZ9100
在线式微量氧含量分析仪为例，可以用来检测高纯气体或混合气体中的微量氧气浓度含量，由于采用的是进口原装高精度长寿命电化学原理传感器，可以非常快速准确地检测出混合气体中氧气的浓度值，误差小、精度高，反应灵敏，性能稳定可靠，几乎免维护，通电开机即可自动工作，可实现长期无人化自动运行。
硅烷中微量氧分析仪技术参数：
产品型号：ERUN-QZ9100
检测气体：混合气中微量氧气
检测原理：ECD电化学
量程范围：0-1000ppm，其他量程范围可订制
分 辨 率：0.1ppm
误差精度：≤±1%F.S.
响应时间：T90≤10秒
数据传输：4-20 mA模拟信号、RS232/RS485标准数字信号
工作温度：－10℃ ～ ＋50℃
工作湿度：≤90%RH
工作压力：0.05MPa ～ 0.25MPa
工作电源：220VAC±10%，50Hz±5%；12V，20000 mA超大容量可充放电池
以上就是关于
硅烷中的微量氧含量怎么测的相关介绍，硅化镁法、氢化铝钠还原四氟化硅法和氯硅烷歧化工艺法制备的电子工业用硅烷可能会含有氧气，这是因为这些方法在制备过程中可能涉及到氧化反应或者空气中的氧气被引入。而通过使用
高纯SiH4气体中O2浓度分析仪就可以对于高纯硅烷气体中所含有的微量硅烷气体的浓度值进行检测，已判定其浓度含量是否合格，如有任何疑问欢迎咨询赢润集团工作人员。
